制造商：Mentor Graphics Calibre OPC pro提供复杂IC布局的全芯片光学和工艺校正，以提高产量和工艺自由度。Calibre OPC pro使用面向批量的流程，对布局进行更改，以补偿深亚微米制造过程中固有...

制造商：Mentor Graphics Calibre MPCpro是一种针对电子束光刻和掩模蚀刻工艺引入的系统误差的解决方案，基于Calibre OPCpro技术进行光学工艺校正。Calibre MPCpro可纠正雾化、显影和蚀刻加载等...

制造商：Mentor Graphics 利用Questa Formal验证引擎，可以深度穷举分析设计的行为，从而可以探测到响应检查器断言违反的复杂错误和触发条件，发现验证激励的漏洞，提高验证的完备性。 对于关键...

制造商：Mentor Graphics Oasys RTL物理RTL合成解决方案是最先进合成技术的革命性进步。它解决了几十年前设计的传统RTL合成工具的局限性。Oasys RTL的设计满足了复杂、先进的节点、高性能设计的...

制造商：Mentor Graphics Catapult高级综合平台使设计师能够使用行业标准ANSI C++和SystemC来描述功能意图，并提升到更高效的抽象级别 从这些高级描述中，Catapult生成生产质量RTL。通过加快RTL...

制造商：Mentor Graphics 奥林巴斯SoC的专利多角多模式（MCMM）架构优化了整个流程中所有模式、角点和功率状态的功率和时序。这项关键创新提供了出色的计时和信号完整性结果，避免了不可预测的...

制造商：Mentor Graphics Calibre MASKOPT通过对断裂数据进行高级预处理来降低总放炮次数，从而降低掩模成本和掩模写入时间。Calibre MASKOPT可以在45 nm及以下的先进技术节点的数据集上实现高...

制造商：Mentor Graphics 当前的低k1光刻工艺增加了纳米设计中分辨率增强技术（RET）应用的复杂性。由于掩模规则约束、碎片、建模和计量误差等原因，这导致了更高的硅故障率。为了减少错误，在...

制造商：Mentor Graphics Xpedition xSD Systems Designer将PCB设计流程扩展到多板电子系统定义、分区、优化和实现 它为多板系统的定义和实施提供了自动化的数据和连接管理功能，显著缩短了设计...

制造商：Mentor Graphics FPGA I/O优化可以消除FPGA和PCB设计组织之间的障碍，以更高的精度和速度实现并行设计过程，并提供正确的按结构FPGA I/O分配，允许在PCB过程中进行管脚交换和基于布局的...

制造商：Mentor Graphics LeonardoSpectrum 是 Mentor 公司出品的一款 HDL 逻辑综合软件，应用于通信、宽带、无线及多媒体领域的可编程 SoC 设计。Leonardo Spectrum 可控性较强。可以提供更好...

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